三星通过创新技术大幅减少3D NAND光刻胶使用量，提升生产效率并降低成本

三星表示，为了提高NAND生产效率并降低成本，它通过采用两项关键创新技术减少了光刻胶的使用。首先，三星在生产过程中优化了每分钟转数和镀膜机速度，在保持最佳蚀刻条件的同时减少了PR的使用，在保持镀膜质量的同时显着节省了成本。其次，PR 应用后的蚀刻工艺得到了改进，尽管使用的材料更少，但仍能达到相同或更好的结果。据了解，三星已将3D NAND生产的PR使用量减少了一半。

但三星此举也意味着东进半导体将面临订单减少的问题。据悉，东进半导体光刻胶业务年营收约为2500亿韩元，其中60%来自三星。

光刻胶被誉为“微纳世界的画家”。在半导体制造中，首先将光刻胶涂覆在硅片或其他基板上，然后通过照明和后续蚀刻进行处理，以实现精细图案的制作。 。

目前，全球光刻胶市场几乎被JSR、东京安佳、信越化学、住友化学等日本企业瓜分，这也让日本在全球半导体制造链中占据着举足轻重的地位，这也让日本取得主动。正确的。日本政府多次限制光刻胶等半导体材料的出口。其中，影响最深远的是2019年7月，日本政府宣布加强对出口韩国的半导体产业材料的审查和管控，将韩国排除在贸易“白名单”之外。 2019年韩国光刻胶对日本的依赖度为80%。不过，韩国政府在受到限制时并没有坐以待毙。它立即带头，在预算中投入6万亿韩元，鼓励韩国材料企业加快研发。 2022年12月，这笔投资终于得到回报。韩国三星电子宣布，已成功将东进半导体开发的EUV光刻胶应用于其芯片工艺生产线。东进半导体成为韩国第一家将EUV光刻胶国产化达到量产水平的公司。 （编辑）