光刻胶产业化迎利好！太紫微公司 T150 A-光刻胶产品通过量产验证

据东湖国家自主创新示范区官网今天（10月15日）消息，武汉太子微光电科技有限公司（以下简称“太子微公司”）近期推出的T150 A型光刻胶产品）已通过半导体工艺量产验证，实现配方完全自主设计。

该产品“标准化了国际领先公司的主流KrF光刻胶系列。与国外同系列产品UV1610相比，T150 A在光刻工艺中表现出120nm的极限分辨率，并具有更高的工艺宽容度和稳定性。更高，薄膜保留硬化后的速率优异，对后续刻蚀工艺更加友好。通过验证发现，在T150 A中刻蚀出密集图形后，底层介质侧壁的垂直度优异。”

据悉，太子微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。团队立足于光刻胶关键底层技术研发，深耕电子化学品领域20余年。武汉光电国家研究中心是科技部2017年批准的首批也是唯一一批6个国家级研究中心之一，其前身是2003年获批的武汉光电国家实验室（筹）。

值得注意的是，天眼查信息显示，太子味公司成立于2024年5月31日，注册资本200万元，实际控制人为祝明强，最终受益于77%的股份。

除朱明强本人外，朱明强分别持有太子微另外两家股东湖北高碳光电科技有限公司和武汉马斯洛普管理咨询合伙企业100%和8%的股份。

华中大学官网信息显示，朱明强是华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授、光学与电子信息学院双聘教授。主要研究领域为有机与纳米光电子学，研究方向包括光刻制造、有机纳米光电子学和超分辨成像。

▌太子微的KrF光刻胶产品水平如何？

一位光刻胶生产企业人士告诉科创板日报记者，国产光刻胶正在量产国外厂商的UV1610产品，确实是一个好消息。

不过，在KrF系列光刻胶产品中，T150 A对标的UV1610产品被认为是“非常常用的胶水”。门槛不高，但是因为常用，所以需求量会比较大。国内北京科华、徐州博康等厂家有能力生产UV1610产品。

从市场竞争的角度来看，“UV1610是一款实际上给其他厂商留下的市场空间所剩无几的产品”。上述人士介绍，北京科华目前直接代理UV1610原厂，主要为原厂提供代理。工作，其他厂商“玩不了”。徐州博康在配方和生产上注重“国产”，具备生产UV1610的能力，但目前其重点更多是BARC（底部抗反射涂层）产品。

其进一步指出，太子微光表示，其产品已通过半导体工艺量产验证，并实现完全自主的配方设计，但最终结果仍取决于市场和客户反馈。据介绍，光刻胶产品的客户验证周期通常需要2年。

▌国产光刻胶去哪儿了？

目前，我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显示，KrF和ArF光刻胶对外依存度最高，国产化率仅为1%。

西部证券指出，我国半导体光刻胶市场90%以上主要依赖进口。本土厂商虽然起步较晚，但目前正处于加速国产化时期。国内同程新材、华茂科技、晶瑞电材、上海新阳等企业均拥有G/I线、KrF、ArF胶布局。发展重点是通用光刻胶和技术难度较低的成熟工艺光刻。胶，使产品推出后能够得到广泛应用，并继续积极与下游晶圆厂合作进行产品开发和验证。

据《科创板日报》不完全统计，国内多家企业均有KrF光刻胶产品布局：

上海欣阳表示，KrF光刻胶已售出，且销量正在逐步增加。合肥工厂目前处于试生产阶段；晶瑞电材的各类KrF光刻胶已量产并供应给多家半导体客户。

此外，鼎龙股份表示已开发出7款KrF光刻胶产品，其中1款可达到120nm L/S和130nm Hole的KrF极限分辨率的光刻胶；八亿时空上海半导体项目成功实现KrF光刻胶粘剂用PHS树脂量产100公斤级；飞凯材料光刻胶产品包括支持半导体领域使用的BARC材料的i-line和KrF光刻机。

“从根本上来说，国产光刻胶的上游原材料仍然要依赖进口，需要改进的是配方。目前，国产光刻胶胶原材料的配方稳定性与国外相比存在一定差距。”一些光刻胶从业者告诉科创板记者，“原料配方以外的技术领域的突破并没有那么困难。”

新材料领域产业基金投资者分析师认为，“从细分角度来看，原材料和配方是最关键的两个因素。成本的降低、性能指标的突破以及与下游客户的匹配就靠这两部分来实现突破。在此基础上，生产技术和设备将会有突破，这将对成本降低产生直接影响。 ”

其他新材料领域的投资者也持有类似观点，并表示目前国内的主要研究是光刻胶原材料的配方。 “与技术突破相比，更值得关注的是这家公司（太子微公司）所使用的主材料和辅助材料是从哪里采购的。目前国内企业对光刻胶原材料有一定的进口依赖。相关光刻胶原蛋白材料基本都是日本进口，不排除发布此类消息（小K注：指太子微光刻胶产品通过半导体工艺量产验证）为公司造势的可能。

关于太子微T150A产品的客户验证进展，以及后续产品系列的研发计划，科创板报记者试图通过电子邮件联系朱明强，但截至目前尚未收到回复。新闻时间。