光谷企业在半导体光刻胶领域取得重大突破，有望开创国内新局面

武汉太子微光电科技有限公司（以下简称“太子微公司”）推出的T150A光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证，并实现配方完全自主设计。有望开创国内半导体光刻机制造新局面。 。

该产品对标国际领先公司主流KrF光刻胶系列。与业内被称为“妖胶”的国外同系列产品UV1610相比，T150A在光刻工艺上极限分辨率达到120nm，具有更大的工艺宽容度和更高的稳定性。薄膜保留率优异，对后续蚀刻工艺更加友好。通过验证发现，T150A刻蚀出密集图案后，底层介质侧壁的垂直度非常好。

公开资料显示，太子微公司于2024年5月由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。

太子味公司负责人、英国皇家化学会会员、华中科技大学教授朱明强表示：“从原料开发开始，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是我们团队将继续研发不同场景下使用的KrF、ArF系列光刻胶，为国内相关行业带来更多惊喜。”

太子微致力于半导体高端电子化学材料的开发，采用新的技术路线，开发半导体制造新的先进光刻制造技术，同时提供最全面的材料分析和验证手段。

“无论是从国内半导体产业崛起的背景来看，还是基于摩尔定律的演变展望未来，‘百家百家争鸣’的局面已经形成。将会有很多新的产品出现。”光刻领域的技术和新公司不断涌现，但凭借科技创新的力量是生存的必要前提。”太子微外部专家顾问项世力博士表示。